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400-635-0567Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
标准 推荐性 现行标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203(半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为标准化管理委员会。
江苏中能硅业科技发展有限公司 、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司 、有研半导体材料有限公司 、宜昌南玻硅材料有限公司 、新特能源股份有限公司 、洛阳中硅高科技有限公司 。
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